【技术前沿】冲刺 angstrom 时代：冲绳科学技术大学院大学（OIST）提出新型极紫外（EUV）光刻系统，功耗降至传统系统十分之一
内容要点：
• 突破兆瓦级功耗门槛：OIST 新丸友教授（Tsumoru Shintake）团队提出了一种革命性的极紫外（EUV）光刻机设计，可将运行功耗从传统系统的超 1 兆瓦（MW）降至 100 千瓦（kW）以下。
• 极简光学路径设计：该设计将原本复杂的反射镜组简化为仅需 2 块反射镜的投影系统（整个系统共 4 块反射镜），使得最终到达硅片的 EUV 能量比例从 1% 大幅提升至 10%。
• 免除能耗庞大的冷却系统：功耗 of 降低不仅使得光刻机可以使用更小的 20W 极紫外光源，还完全免除了传统系统庞大且高能耗的冷却设施，有望大幅降低先进芯片的制造与运行成本。
久湛洞察：
随着半导体制程迈向 2 纳米及以下，传统 EUV 光刻机的超高电耗和镜面光损正逼近物理极限。OIST 对光学反射路径的“极简重新编排”，证明了物理层面的基础架构创新对算力底层硬件的重构力。如果该设计顺利商业化，将极大降低先进晶圆厂的资本开支与绿色环保达标压力，为全行业提供更普惠的超高算力物理芯片。
> 权威源：冲绳科学技术大学院大学（OIST）科研成果动态发布（2026年6月中旬）
> 关键词：OIST、EUV 光刻、Shintake、简化光学路径、半导体能效、埃米制程
> 真实链接：OIST 官方科研动态...